光催化氧化設備
光催化氧化設備是在外界可見光的作用下發生催化作用，以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O及其它無毒無害成份。利用人工紫外線光波作為能源，配合經我公司特殊處理后活性最強、反應效率較高的納米TiO2催化劑，廢臭氣體經過處理后可達到凈化的更理想的效果。
內容介紹
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1、光催化氧化設備原理光催化氧化設備是在外界可見光的作用下發生催化作用，以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O及其它無毒無害成份。利用人工紫外線光波作為能源，配合經我公司特殊處理后活性最強、反應效率較高的納米TiO2催化劑，廢臭氣體經過處理后可達到凈化的更理想的效果。
設備工作是氣體環境溫度在攝氏60℃以下、濕度在90%以下、無固體粉塵，處理的成分應當只是氣體，滿足以上三個條件時可以達到不錯的凈化效果，如濕度及溫度過高需作預處理，在廢氣處理過程中不可有固體粉塵及大量水蒸汽進入設備，這樣會直接影響除臭效果，甚至沒有效果，光催化氧化停留時間控制在合理范圍之內。
能夠去除各種有機廢氣如烴類、醛類、酚類、醇類、硫醇類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物以及其它VOC類有機物及無機物。對原子有機物如鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷殺蟲劑也有很好的去除效果，只要達到一定的反應時間和反應環境配比即可達到完全氧化，可以說氫氧自由基的氧化對象幾乎沒有選擇性，能跟任何現有物質反應。除臭凈化效果可達96%以上。
（此內容由www.sdrcn.org提供）
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